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SPIE Advanced Lithography + Patterning 是半导体光刻与图形化领域的重要行业会议，聚焦先进制程、EUV/下一代光刻、掩模与工艺创新等关键技术。该会议通常汇集晶圆厂、设备商和研究机构的专家，推动相关企业在更小制程节点上的技术突破与商业合作。