Le CEA et Soitec ont récemment inauguré une zone dédiée à leurs travaux communs au sein des salles blanches du CEA-Leti. Une façon de consolider leur collaboration historique et d'accélérer les projets de R&D de l'entreprise, grâce à des équipements et à des équipes affectés pleinement à cette nouvelle organisation.
Soitec, leader mondial des matériaux innovants pour semi-conducteurs, tient son origine de travaux de recherche menés au CEA-Leti. Ainsi, dès la création de l'entreprise en 1992, les deux acteurs ont entretenu une relation étroite et continue qui a favorisé le développement de nombreuses innovations.
C'est, par exemple, au cœur des salles blanches du CEA-Leti qu'a été installée une ligne pilote pour la filière SiC (carbure de silicium) de Soitec. Un travail conjoint qui a abouti, en un temps record, aulancement d'une usine consacrée à la technologie SmartSiC™en septembre 2023.
En conséquence, les deux partenaires ont souhaité mettre en place une zone dédiée à leur collaboration, toujours au sein des salles blanches du CEA-Leti. Son objectif : améliorer la vitesse d'exécution des travaux de R&D de Soitec et en assurer un suivi plus précis. Avec un focus initial sur des lignes pilotes consacrées à deux semi-conducteurs III-V : le nitrure de gallium (GaN) et le phosphure d'indium (InP).
Pour porter cette ambition, la zone dédiée réunira une trentaine d'équipements spécifiques et une trentaine de personnes qui y travailleront à temps plein, CEA et Soitec confondus.
Par ailleurs, la zone dédiée s'accompagne d'une nouvelle organisation, adaptée aux exigences de Soitec, avec notamment un modèle spécifique de « WIP » (Work In Progress) qui définit les règles de gestion des lots pas encore achevés. Ce cadre concerne également les relations de la zone avec l'extérieur : si celle-ci se distingue par ses activités réservées au partenariat, elle requiert toutefois des échanges réguliers avec les autres parties des salles blanches du CEA-Leti. Des interactions régies et suivies par un nouveau système informatiquead hoc.